光刻机
光刻机是半导体制造的核心设备，主要用于芯片生产中的光刻工艺，技术门槛极高，目前全球市场主要由荷兰ASML（极紫外光刻机EUV）、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）垄断。
中国在光刻机领域仍处于追赶阶段，但国产替代需求迫切，因此A股市场中的“光刻机概念股”主要围绕光刻技术、核心部件、材料及设备配套等环节展开。
以下是相关概念股分类及重点公司分析：
一、光刻机核心概念股分类
1. 光刻机整机及核心技术
微电子（SMEE）（未上市，但关联公司受关注）
中国唯一可生产前道光刻机的企业（目前量产90nm光刻机，28nm在研），其股东或供应链公司常被市场炒作。
关联公司：张江高科（600895，参股）、上海电气（601727，间接关联）。
2.光刻机核心部件
光学系统：
福晶科技（002222）：激光晶体龙头，供货ASML，用于光刻机激光光源。
奥普光电（002338）：中科院长光所旗下，参与光刻机光学部件研发。
双工件台：
华卓精科（未上市）：国产光刻机双工件台核心企业，清华系技术。
关联公司：清华控股（如同方股份等）。
光源系统：
科益虹源（未上市）：国产光刻机光源供应商，股东包括中科院微电子所。
3. 光刻胶及配套材料
晶瑞电材（300655）：KrF光刻胶量产，ArF在研。
南大光电（300346）：ArF光刻胶通过验证，国产替代核心标的。
容大感光（300576）：PCB光刻胶龙头，半导体光刻胶布局中。
上海新阳（300236）：KrF/ArF光刻胶研发，与SMEE合作。
4. 其他设备及配套
芯源微（688037）：涂胶显影设备，配套光刻工艺。
精测电子（300567）：半导体检测设备，覆盖光刻环节。
茂莱光学（688502）：精密光学元件，用于光刻机镜头。
长线聚焦技术突破：跟踪、光刻胶企业的实际量产进度。
分散配置：光刻机产业链长，可组合布局设备（芯源微）、材料（南大光电）、部件（福晶科技）。